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工业纯水纯度指标
工业纯水纯度指标
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美国半导体工业用纯水指标
化学指标单位：μg/L
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项 目
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Ⅰ级
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Ⅱ级
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Ⅲ级
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Ⅳ级
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残渣，mg/L
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0.1
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0.3
|
0.3
|
0.5
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TOC，mg/L
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0.02
|
0.05
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0.10
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0.40
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颗粒，粒/L
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500
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1000
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2500
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5000
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细菌数，个100mL
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0
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6
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10
|
50
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活性硅SiO2，μg/L
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3
|
5
|
10
|
40
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电阻率MΩ·cm
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18.3
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17.9
|
17.5
|
17.0
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阳离子，μg/L
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0.2
|
2.0
|
5.0
|
*
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铝 Al3+
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0.2
|
2.0
|
5.0
|
*
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铵 NH4+
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0.3
|
0.3
|
0.5
|
*
|
|
铬 Cr6+
|
0.02
|
0.1
|
0.5
|
*
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铁 Fe 3+
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0.02
|
0.1
|
0.2
|
*
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铜 Cu 2+
|
0.02
|
0.1
|
0.5
|
*
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锰 Mn 2+
|
0.05
|
0.5
|
1.0
|
*
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钾 K +
|
0.1
|
0.3
|
1.0
|
4.0
|
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钠 Na +
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0.05
|
0.2
|
1.0
|
5.0
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锌 Zn 2+
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0.03
|
0.1
|
0.5
|
*
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阴离子，μg/L
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0.1
|
0.1
|
0.3
|
*
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溴 Br -
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0.1
|
0.1
|
0.3
|
*
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氯 Cl -
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0.05
|
0.2
|
0.8
|
*
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亚硝酸根 NO2-
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0.05
|
0.1
|
0.3
|
*
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硝酸根 NO3-
|
0.1
|
0.1
|
0.5
|
*
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磷酸根 PO43-
|
0.2
|
0.2
|
0.3
|
*
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硫酸根 SO42-
|
0.05
|
0.3
|
1.0
|
*
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